巻頭言
「電子分光法を外から眺めると」河合 潤・・・・211
論文
絶対オージェスペクトルを用いた表面励起効果の解明永富隆清， 後藤敬典・・・・212
Characterization of Lubricative Coating after Exposure Test in Orbit
M. Tosa, A. Kasahara, M. Goto, Y. Pihosh, S. Ota, T. Kimura, S. Fukushima, T. Inoue, E. Miyazaki and K. Imagawa・・・・217
Effective Resolution of Phase-contrast Images in X-ray Microscopy
Y. Yamaguchi, R. Shimizu, T. Ikuta, T. Kikuchi and S. Takahashi・・・・223
技術報告
ＸＰＳによる帯電補正方法の現状 −アンケート結果−小泉あゆみ， 山内京子， 佐藤美知子， 表面汚染炭化水素プロジェクト・・・・234
解説
オージェ電子分光による化学状態分析の現状境 悠治・・・・239
連載（講義）
電子光学入門 −電子分光装置の理解のためにー 第８回嘉藤 誠・・・・245
国際会議報告 Korean Symposium on Surface Analysis (KoSSA)
中村 誠・・・・271
編集後記
・・・・・・・・・・・・276