巻頭言
表面分析研究会の発足に際して吉原一紘・・・・1
発刊によせて
JSAの発刊によせて志水隆一・・・・2
Journal of Surface Analysis発刊に寄せて
岩橋理彦・・・・3
表面分析研究会（JSA）に期待する
天野徹・・・・4
講義：実用電子分光法講座
正しいスペクトルを得るために；標準化のめざすもの吉原一紘・・・・5
ノイズ、Ｓ／Ｎ、そして平滑化
福島整・・・・10
解説
やさしいネットワークの利用法 その１．データ転送の基礎古川洋一郎，武内豊・・・・15
研究論文および技術報告
ポリマーのオージェ分析における電子線ダメージと冷却効果関根哲，池尾信行，長澤勇二・・・・19
Electron inelastic mean free path correction for quantitative Auger and X-ray photoelectron analyses of Au-Cu alloys
S. Tanuma・・・・24
二次イオン質量分析法によるNi/Cr多層膜の深さ方向分析
麻生昭弘，田沼繁夫・・・・30
Arイオンスパッタリングされた各種化合物半導体の表面SEM観察
荻原俊弥，田沼繁夫・・・・36
Ｑ＆Ａ
電子分光における仕事関数関根哲・・・・43
ＴＡＳＳＡレポートのたまご
CMAの焦点あわせ大村卓一・・・・45
バックスキャッタ補正計算方法
一村信吾・・・・47
バックスキャッタリング効果の補正方法
一村信吾・・・・49
TPP-2M式による電子の非弾性平均自由行程の推定法
田沼繁夫・・・・50
励起Ｘ線強度の管電圧．管電流依存性
二澤宏司・・・・52
ウインドウの厚さとＸ線透過率の関係
二澤宏司・・・・54
不純Ｘ線
二澤宏司・・・・55
ピークの重心位置の決定法
福島整・・・・57
直線バックグランドによるピーク位置、幅および面積の自動決定法
福島整・・・・58
バックグランド決定法法によらないピーク位置の決定法
福島整・・・・59
直線で近似されたバックグランドの自動決定法
福島整・・・・60
スペクトルデータベース基本構造
福島整・・・・61
データファイル転送方法（１）
古川洋一郎、武内豊・・・・62
特集：表面分析の現状と将来
「表面分析の現状と問題点」シンポジウム講演要旨
Opening and IntroductoryS.Ichimura・・・・90
Keynote Lecture
Present Status in Surface Analysis by Electron SpectroscopyC.J.Powell・・・・91
Spectrometer Calibration in Electron Spectroscopy
Calibration of Electron Spectrometer Energy Scales for AES and XPSM.P.Seah・・・・96
Calibration of Electron Spectrometers in a Wide Energy Range
L.Koever・・・・99
Comment on Spectrometer Calibration in Electron Spectroscopy
J.Toth・・・・101
Applications of AES/XPS for Surface Analysis
Recent Developments in Quantitative XPSA.Jablonski・・・・104
XPS Applications in the Analysis of Alloys
C.Y.Hwang・・・・108
Oxidation Behavior of Microcrystalline AlSix Alloys Studied by AES Techniques
V.Gaidarova・・・・112
Backscattering Factor for KLL Auger Yield from Film-Substrate System
C.L.Lee and C.K.Ong・・・・115
Quantitative Analysis of Metal Alloys by AES and XPS
H.J.Kang,N.S.Park,C.H.Kim and M.W.Kim・・・・118
Extracting Enetrgy Loss Mechanism from XPS Data
M.Joe・・・・120
Depth Profiling and Sputtering
Depth Profiling without SputteringA.Tanaka・・・・122
A Dependence of Sputtering Rate on Primary Ion Energy in Sputter Depth Profiling-How to control the sputtering rate in depth profiling-
Y.Wang and X.Chen・・・・126
Surface Composition and Spectral Depth Profiling Analysis by Medium Energy Ion Scattering Spectroscopy
D.W.Moon・・・・132
How much Dose the Sputter-Induced Roughness Affect the Reduction of Depth Resolution?
I.Kojima・・・・133
共用スペクトルデータの取得とデータベース
共用スペクトルデータの取得活動志智雄之・・・・134
データベース計画
関根哲・・・・136
「これからの表面分析」シンポジウム講演要旨
IntroductoryS.Ichimura・・・・143
Standardization in Depth Profiling
A Framework for Quantitative Depth ProfilingS.Hofmann・・・・144
Analysis of Auger Depth Profiles with a Resolution Function
S.Tanuma,T.Kitada and T.Harada・・・・147
Stabdardiztion in Spectrum Analysis
Procedures for Quantitative Surface Chemical Analysis-Internal Standard and External Standard-K.Hirokawa・・・・150
Background Subtraction for Quantitative XPS
S.Tougaard・・・・153
Database for Surface Loss Function Derived by Extended Landau Formulation
T.Nagatomi, H.Yoshikawa,Z.-J.Ding and R.Shimizu・・・・157
Standard Spectra and Their Use in Database
Auger Electron Spectrometry Data BankM.P.Seah・・・・160
Standard Auger Spectra Taken iwith Standard CMA
K.Goto・・・・162
Spectrometer Calibration with "Standard" Auger Spectra
M.Yoshitake・・・・166
Construction of the Network Databse and Future Surface Analysis
K.Yoshihara・・・・168