巻頭言
On DocumentationM. P. Seah・・・・1
解説
表面分析の電子・通信産業での利用鈴木峰晴・・・・2
真空材料研究における表面分析の応用
大塚芳郎・・・・15
総説
A Critical Review of Popular XPS Data-BankB. V. Crist・・・・21
研究論文および技術報告
試料冷却法を併用したAES深さ方向分析によるSiO2/Si熱酸化膜の分析
荻原俊弥，田沼繁夫・・・・59
市販ソフトを用いた非対称XPSスペクトルの波形分離
團野哲也，塩沢一成・・・・65
Surface Chemical Analysis - Information Formats
K.Yoshihara, M.Yoshitake, H.Kasamura, K.Nisawa, M.Shichi and A.Tanaka・・・・70
特別講座要旨
The progress of Quantitative Analysis by Electron SpectroscopyM. P. Seah・・・・75
The progress in Auger Electron Spectroscopy of Solids
J. T. Grant・・・・76
Fundamentals of Depth Profiling by Ion Sputtering
S. H. Hofmann・・・・79
Ｑ＆Ａ
IMFPの定性的な理解について田沼繁夫・・・・89
ＴＡＳＳＡレポートのたまご
TASSAレポート（案）の審議経過報告・・・・・・・・・・・・91
標準試料を用いたデプスプロファイルからの深さ分解能の読み方
荻原俊弥・・・・94
スペクトルの質をチェックする基準
堂前和彦・・・・97
XPS Charge Referencing based on the Presence of Advantitious Hydorocarbons
B. V. Crist・・・・98
表面分析研究会活動経過報告
SiO2スペクトルの比較（電子材料第１回材料 AES測定）折笠仁・・・・99
InGaAsスペクトルの比較（電子材料第１回材料 AES測定）
殿川衛・・・・101
AlGaAsスペクトルの比較（電子材料第１回材料 AES測定）
野々上寛・・・・103
第４回研究会議講演要旨
２次イオン質量分析法による鋼中溶存元素の定量笹川薫，豊田忠，源内規夫・・・・106
デコンボリューションによる電子スペクトルの分解能向上処理
福島整・・・・107
XPSにおけるポリマーの価電子帯のスペクトル解析．n-mer(n=2-5)modruモデルによるMO計算からの考察
遠藤一央・・・・108
XPS study of Interface Reaction between Titanium Thin Film and Sapphire Substrate
H. J. Kang and C. H. Kim・・・・115
高温超伝導酸化物のXPSによる研究
名越正泰・・・・120
カーブフィッテングを用いたXPSスペクトル解釈によるポリマーパウダー表面の分析
丸山達哉，福島整・・・・121
電子・通信材料における表面分析事例
鈴木峰晴・・・・124
純オゾンを用いたSi(lll)面の初期酸化のXPSとSHGによる解析
一村信吾，黒河明，中村建・・・・126
掲示板
第４回研究会 話題提供用要旨
簡易NPLビューアプログラムの開発堂前和彦・・・・130
A Novel Technique to Determine the IMFP by Total Reflection X-ray Photoelectron Spectroscopy
J.Kawai, H.Adachi, Y.Kitajima, K.Maeda and Y. Gohshi・・・・132
話題
材料別分科会とデータベース構築との関わりについて鈴木峰晴・・・・134
データベース構想の位置づけ
吉原一紘・・・・135
議事録
第４回金属材料分科会議事録第４回電子材料分科会議事録／第４回無機材料分科会議事録
・・・・・・・・・・・・137
お知らせ
＊編集委員会／論文,解説の募集について／投稿規定（改正）／投稿票／付録・・・・・・・・・・・・142
Journal of Surface Analysis, Vol.1 : 総目次
Author Index / Contents Index＊編集後記
・・・・・・・・・・・・150