2002年度　実用表面分析講演会 講演者リスト

（ 2024 年 4 月 20 日 現在。 ）

ポスター講演 37 件

氏名 所属 題目 内容
○當麻　肇 株式会社日産アーク XPS分析の試料損傷における中和機構の影響
○當麻　肇、佐藤　誓 株式会社日産アーク 高エネルギー型X線アノードによるXPS分析
境　悠治 日本電子（株）営業販促G 電子、X線励起による二次電子像コントラストの比較
○石川信博、三石和貴、長谷川明、古屋一夫、渡辺義見、稲見隆 物質・材料研究機構、信州大学*、茨城大学** イオン注入によるウスタイトの構造変化
○荻原俊弥、茂木カデナ、鈴木峰晴 NTTアドバンステクノロジ（株） Ar+イオンガンを用いたオージェ電子分光法による絶縁物測定法の検討
○白井 詩織、佐藤 美知子 富士通分析ラボ株式会社 絶縁物を含む断面試料の観察・AES分析におけるFIBデポジション機能利用
○後藤敬典、李万燕、姜永忠、加藤亮一、*志水隆一 名古屋工業大学、*大坂工業大学 ＰＥＥＭによる仕事関数の絶対計測；標準ＡＥＳのために
○東條ニ三代，吉川住和，本間芳和，竹中久貴，林俊一，井上雅彦，後藤敬典，志水隆一 �蠑床璽謄�ノリサーチ ＢＮデルタドープ多層膜標準試料のＳＩＭＳによる解析
○吉川英樹、木村昌弘、ブライク　ミハイ、田中彰博1)、藤方潤一2)、大橋啓之2)、福島整 物質・材料研究機構、アルバックファイ1)、NEC基礎研2) 放射光を用いたすれすれ入射でのXPS多層膜測定
○白村和香子、柳内克昭、千原 宏 TDK株式会社 FIBのデポジション機能を用いた絶縁材料の帯電補正
水原 譲、辻田 卓司、○永富 隆清、高井 義造 阪大院工 Quantitative Measurement of Electron Induced Surface Potential and Amount of Charging on Insulator Surface
水原 譲、○永富 隆清、高井 義造、井上 雅彦*、志水 隆一** 阪大院工、摂南大*、大工大** 高分解能深さ分析のための超高真空浮遊型低速イオン銃の開発
○小泉 あゆみ、佐藤 美知子*、高野 みどり**、山内 京子*** 新光電気工業(株)、富士通分析ラボ(株)*、(株)松下テクノリサーチ**、日本板硝子テクノリサーチ(株)*** Au表面における吸着炭素C1sのエネルギーシフト
〇木村　昌弘、吉川　英樹、VLAICU Aurel Mihai、田中　彰博*、福島　整 物質・材料研究機構、アルバックファイ* XPSを用いた表面XANES測定時の実験的課題
○森　行正　種村　榮 日本ガイシ株式会社　中央研究所 Ｘ線光電子分光法の深さ方向分析における帯電現象の研究
○日比 孝明、永富 隆清、木村 吉秀、高井 義造、粟田 正吾、万木 利和、大堀 謙一 大阪大学大学院工学研究科物質・生命工学専攻 電子衝撃による連続、特性、傾向X線発生のモンテカルロシミュレーションによる研究
○眞田則明、王道元、星孝弘、大岩烈、佐々木公洋* アルバック・ファイ、金沢大院* 高機能XPSによる極薄膜の深さ方向分析
○漆原宣昭、眞田則明、星孝弘、大岩烈 アルバック・ファイ 絶縁物AES微小部分析における低速Arイオンビーム照射の効果(1)
○木村　隆，田沼　繁夫，井上　雅彦*，鈴木　峰晴**，橋本　哲***，三浦　薫**** 物・材機構，摂南大学*，NTT-AT**, 鋼管計測***，トクヤマ（株）**** AESによるSiO2/Si試料表面の電子線照射損傷の定量的評価（�供�
○木村　隆，西田　憲二，田沼　繁夫，山田　浩之* 物・材機構，日本電子（株）* フィールド・エミッション電子銃を搭載した高分解能EPMAの開発
○高橋和裕、吉田能英、山口道生、A.J. Roberts クレイトス アナリティカル リミテッド パラレルXPSイメージングを用いた新しい測定法と解析法
○石川信博、三石和貴, 長谷川明, 古屋一夫, 渡辺義見, 稲見隆 分析ステーション（石川）、ナノマテリアル研究所（三石、長谷川, 古屋）, 物質・材料研究機構、信州大学（渡辺）, 茨城大学（稲見） イオン注入によるウスタイトの構造変化
○吉田能英、高橋和裕、山口道生、A.J. Roberts クレイトス アナリティカル リミテッド XPSイメージングのNaF,NaCl混合物への応用とその結合エネルギー軸の較正
石川信博、木村隆、田沼繁夫、杉崎敬 分析ステーション、物質・材料研究機構（杉崎のみメルテックス（株）） 斜め研磨法を適用した鉛フリーハンダ接合部の解析
○田沼繁夫，木村隆，後藤啓典*，一村信吾** 物質・材料研究機構，*名工大，**産総研 弾性散乱分光法により測定したIMFPのFanoプロットを用いた解析
○田沼繁夫，木村隆，後藤啓典*，一村信吾** nims, *名工大，**aist 弾性散乱分光法により測定したIMFPのFano Plotによる解析
〇福島整1、吉川英樹1、木田義輝2、田中彰博2、木村昌弘1、渡邉勝巳2、A.M.Vlaicu1、二澤宏司1、奥井眞人1、八木信弘1、北村優1、田口雅美2、大岩烈2 1:独立行政法人物質・材料研究機構　2:アルバック・ファイ株式会社 SPring-8 BL15XUにおける
○新谷龍二、荒木祥和、表面分析研究会ＳＥＲＤプロジェクト 住友金属テクノロジー（株）、（株）日産アーク 製法の異なるＡｕのスパッタエッチングレート測定
○荻原俊弥、佐藤芳之、金沢美保、清田茂男１、渡辺喜隆１、松林信行２、松本智３、鈴木峰晴 ＮＴＴアドバンステクノロジ、清田製作所1、産業技術総合研究所2、慶應義塾大学3 表面分析法による0.1mmピッチ４探針抵抗測定用試作ファインプローブの評価
○阿部 芳巳 シーエーシーズ（株）横浜センター　 Cu自然酸化皮膜の化学状態分析　-AESとXPSの比較-
〇小嶋 達也、松尾　浩、木村　吉秀、高井　義造 大阪大学大学院工学研究科物質・生命工学専攻 CL-FESEMを用いたポーラスシリコンの発光特性に関する研究
○下藤潤平、永富隆清、高井義造 大阪大学　大学院工学研究科　物質・生命工学専攻 低速イオン照射によるFIB誘起ダメージ層の低減化
○橋本哲、櫻田委大、村田亜紀、田中彰博 鋼管計測（株）、アルバック・ファイ（株） Arイオン照射したTiO2のTi 2p XPSスペクトルの経時変化に対する定式化
○鈴木 峰晴、安藤 洋、荻原 俊弥、橋本 哲、田沼 繁夫、小島 勇夫、麻生 昭弘、小泉 あゆみ、當麻 肇、三浦 薫、吉原 一紘 ＮＴＴ−ＡＴ、鋼管計測、物質・材料研究機構、産業技術総合研究所、日鉱金属、新光電気工業、日産アーク、トクヤマ XPS分析における試料表面の損傷評価のための試料ホルダの開発とラウンドロビンによる損傷評価
○西澤 真士、山本 洋司、佐藤 裕子、照喜名 伸泰、木村 幸司、坂部 行雄 (株)村田製作所 ＡＥＳの空間分解能に及ぼす背面散乱電子の影響
○白鳥　翼，塚本直人，飯村兼一，加藤貞二，鈴木　昇 宇都宮大学工学研究科 XPS測定時におけるハロゲン化アルキル基の分解速度
○伊藤幸一、樋口浩一、藤井博信 広島県立西部工業技術センター、広島大学 XPSを用いたPd/Mg水素吸蔵触媒の深さ分析

口頭講演 2 件

氏名 所属 題目 内容
○木村　隆，西田　憲二，田沼　繁夫 物・材機構　分析ステーション TFE-EPMAを応用したAl-Cu接合境界に生成した化合物の同定
○田沼繁夫，C.J. Powell*, D.R. Penn* 物質・材料研究機構，*NIST IMFPの一般式TPP-2Mにおける信頼性の検討