第2部 「分析現場における表面分析の活用事例」
２００４年６月２１日（月）１３：００〜６月２２日（火）１３：００
| 6月21日(月) | ||
| 12:30〜13:00 | 研究会受付 | |
| 13:00〜13:05 | 開会挨拶 |
柳内克昭(TDK) |
| 13:05〜13:45 | PSA-03/Powell賞受賞記念講演 「ToF-SIMS，XPSによるCdSe半導体ナノ結晶の配位構造解析」 |
阿部芳巳(三菱化学) |
| 13:45〜15:25 | テーマ講演 第1部 「実用表面分析における表面電子励起現象(2)」 (2件；講演45分+質疑5分) |
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| 「表面電子励起効果に関する研究の現状(2)」 | 永富隆清(大阪大学) | |
| 「XPSの定量分析における表面電子励起」 | 橋本 哲(鋼管計測) | |
| ＜休憩(15分)＞ | ||
| 15:40〜16:40 | テーマ講演 第2部 「分析現場における表面分析の活用事例」 (2件；講演25分+質疑5分) |
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| 「金属-絶縁物複合材料の帯電現象」 | 森 行正(日本ガイシ) | |
| 「製造工程における局所・表面分析活用の現状」 | 柳内克昭(TDK) | |
| 16:40〜17:40 | 「絶対CMAのコーティング（仕事関数）と透過率計測、とSPring8の霧箱観測」 | 後藤敬典 (名古屋工業大学) |
| 18:00〜20:00 | 懇親会（夕食） | |
| 20:30〜22:00 | プロジェクト討議(各コテージ) | |
| 22:00〜 | ミッドナイトディスカッション | |
| 6月22日(火) | ||
| 9:00〜10:40 | 話題提供 (4件；講演20分＋質疑 5分) |
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| 「パラレルXPSイメージングと新型検出器」 | 高橋和裕 (Kratos Analytical) |
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| 「Alの状態分析について」 | 速水弘子(住金テクノ) | |
| 「AFMによるCD-R記録部の評価」 | 白砂健司(TDK) | |
| 「角度分解XPSと最大エントロピー法による薄膜解析」 | 坂本文孝 (サーモエレクトロン) |
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| ＜休憩(20分)＞ | ||
| 11:00〜12:45 | プロジェクト関連報告 | |
| 「ISO TR15969 Depth Profilingの邦訳紹介」 | 新谷龍二(住金テクノ) |
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| 「プロジェクト活動報告」 | ||
| ・バックグラウンド | 田沼繁夫 (物質・材料研究機構) |
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| ・電子線照射損傷 | 木村 隆 (物質・材料研究機構) |
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| ・有機物損傷 | 當麻 肇(日産アーク) | |
| ・SERD | 新谷龍二(住金テクノ) | |
| ・表面汚染炭化水素 | 小泉あゆみ (新光電気工業) |
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| 他 | ||
| 12:45〜12:55 | 連絡事項 | |
| 12:55〜13:00 | 閉会挨拶 | 田沼繁夫 (物質・材料研究機構) |
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