第33回表面分析研究会プログラム
「二次電子像解釈およびシミュレーションの最前線」２００９年６月１５日（月）１３：３０～６月１６日（火）１５：００
| ６月１５日（月） | ||
| 13:00～ | 参加受付 | |
| 13:30～13:35 | 開会挨拶 | 荒井 正浩（住友金属工業） |
| テーマセッション「二次電子像解釈およびシミュレーションの最前線」 | ||
| 13:35～13:45 | 企画趣旨説明（10分） | 吉川 英樹（物質・材料研究機構） |
| 13:45～15:00 | ＜第１部＞ 低加速電圧SEM （25分×3件） | |
| ＜招待講演＞「絶縁性試料におけるSEMコントラスト」 | 鈴木 誠（日立ハイテクノロジーズ） | |
| 「低加速SEMにおける像検出と像情報」 | 熊谷 和博（物質・材料研究機構） | |
| 「新しい表面観察としての極低加速電圧SEM」 | 橋本 哲（JFEテクノリサーチ） | |
| 15:00～15:40 | ＜第2部＞ 二次電子シミュレーション （40分×1件） | |
| 「二次電子放出とは？ 二次電子－シミュレーションの現状と課題－」 | 永富 隆晴（大阪大学） | |
| 15:40～16:00 | －休憩(20分)－ | |
| 16:00～17:10 | 記念講演 | |
| 「EPMAと私 （散布図を応用したEPMA面分析データの高精度解析）」 | 木村 隆（物質・材料研究機構） | |
| 【PSA-08/Powell賞】 「はんだ実装工程管理のためのAu表面Ni拡散量評価方法の検討」 |
高野 みどり（パナソニック・エレクトロニックデバイス） | |
| 17:10～17:30 | プロジェクト紹介 | |
| 18:15～20:00 | 懇親会 ※討議の場として積極的に御活用下さい。 | |
| 20:15～21:45 | プロジェクト／ワーキンググループ討議 | |
| ６月１６日（火） | ||
| 09:00～09:20 | 話題提供 | |
| 「絶対AESの仕上げ；計測条件と新しいスペクトル（CNT'sとNi）」 （20分） | 後藤 敬典（産業技術総合研究所） | |
| 09:20～10:10 | 基礎講座 | |
| 「データ処理～ファクターアナリシス（因子分析）の使い方」（20分） | 吉川 英樹（物質・材料研究機構） | |
| 「IMFP （第２回）」（30分） | 田沼 繁夫（物質・材料研究機構） | |
| 10:10～10:30 | －休憩(20分)－ | |
| 10:30～11:30 | 話題提供 | |
| 「軟X線領域XAFS ～ニュースバル産業利用ビームライン紹介～」 （40分） | 上村 雅治（シンクロトロンアナリシスLLC） | |
| 「SEMの空間分解能考」 （20分） | 田中 彰博（アルバック・ファイ） | |
| 11:30～13:00 | －昼食(90分)－※研究会では準備致しませんので、各自でお取り下さい | |
| 13:00～14:20 | プロジェクト／ワーキンググループ報告 | 各プロジェクトリーダー |
| バックグラウンド、ToF-SIMS、XPS、ノイズ評価 | ||
| 14:20～14:40 | 「iSAS-09開催報告」 | 吉川 英樹（物質・材料研究機構） |
| 14:40～14:55 | 連絡事項 | |
| 14:55～15:00 | 閉会挨拶 | 柳内 克昭（TDK） |
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