第33回表面分析研究会プログラム

「二次電子像解釈およびシミュレーションの最前線」
2009年6月15日(月)13:30〜6月16日(火)15:00
6月15日(月)
13:00〜 参加受付
13:30〜13:35 開会挨拶 荒井 正浩(住友金属工業)
テーマセッション「二次電子像解釈およびシミュレーションの最前線」
13:35〜13:45 企画趣旨説明(10分) 吉川 英樹(物質・材料研究機構)
13:45〜15:00 <第1部> 低加速電圧SEM (25分×3件)
<招待講演>「絶縁性試料におけるSEMコントラスト」 鈴木 誠(日立ハイテクノロジーズ)
「低加速SEMにおける像検出と像情報」 熊谷 和博(物質・材料研究機構)
「新しい表面観察としての極低加速電圧SEM」 橋本 哲(JFEテクノリサーチ)
15:00〜15:40 <第2部> 二次電子シミュレーション (40分×1件)
「二次電子放出とは? 二次電子−シミュレーションの現状と課題−」 永富 隆晴(大阪大学)
15:40〜16:00 −休憩(20分)−
16:00〜17:10 記念講演
「EPMAと私 (散布図を応用したEPMA面分析データの高精度解析)」 木村 隆(物質・材料研究機構)
【PSA-08/Powell賞】
「はんだ実装工程管理のためのAu表面Ni拡散量評価方法の検討」
高野 みどり(パナソニック・エレクトロニックデバイス)
17:10〜17:30 プロジェクト紹介
18:15〜20:00 懇親会 ※討議の場として積極的に御活用下さい。
20:15〜21:45 プロジェクト/ワーキンググループ討議
6月16日(火)
09:00〜09:20 話題提供
「絶対AESの仕上げ;計測条件と新しいスペクトル(CNT'sとNi)」 (20分) 後藤 敬典(産業技術総合研究所)
09:20〜10:10 基礎講座
「データ処理〜ファクターアナリシス(因子分析)の使い方」(20分) 吉川 英樹(物質・材料研究機構)
「IMFP (第2回)」(30分) 田沼 繁夫(物質・材料研究機構)
10:10〜10:30 −休憩(20分)−
10:30〜11:30 話題提供
「軟X線領域XAFS 〜ニュースバル産業利用ビームライン紹介〜」 (40分) 上村 雅治(シンクロトロンアナリシスLLC)
「SEMの空間分解能考」 (20分) 田中 彰博(アルバック・ファイ)
11:30〜13:00 −昼食(90分)−※研究会では準備致しませんので、各自でお取り下さい
13:00〜14:20 プロジェクト/ワーキンググループ報告 各プロジェクトリーダー
バックグラウンド、ToF-SIMS、XPS、ノイズ評価
14:20〜14:40 「iSAS-09開催報告」 吉川 英樹(物質・材料研究機構)
14:40〜14:55 連絡事項
14:55〜15:00 閉会挨拶 柳内 克昭(TDK)

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