日常的な分析業務におけるJIS並びにISO規格の利用

− 表面分析実用化セミナー '14 −


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講義内容:
<12月11日(木)>
1.SIMS−S-SIMS における相対強度軸目盛の繰り返し性と整合性 (ISO 23830: 2008)
−正しい強度の計測−
伊藤 博人 (コニカミノルタ(株) 開発統括本部 分析・シミュレーションセンター 分析技術室)

2.SIMS−単一イオン計測TOF型質量分析器における2次イオン強度の線形性 (ISO 17862: 2013)
−正確な2次イオン強度計測−
飯田 真一(アルバック・ファイ(株)分析室)

3.SIMS−TOF-SIMS における質量軸校正 (ISO 13084: 2011)
−正しい質量校正−
大友 晋哉(古河電気工業(株) 研究開発本部 横浜研究所 解析技術センター)

4.XPS−装置性能を示す主要な項目の記載方法(JIS K 0162: 2010,ISO 15470: 2004)
−異なるXPS 装置の結果と比較−
AES−装置性能を示す主要な項目の記載方法(JIS K 0161: 2010,ISO 15471: 2004)
−異なるAES 装置の結果と比較−
吉川 英樹((独)物質・材料研究機構 極限計測ユニット 表面化学分析グループ)

5.AES & XPS−空間分解能の決定(ISO 18516: 2006)
−空間分解能を知るために−
AES & XPS−空間分解能,分析領域及び分析器から見える試料表面領域の決定(ISO/TR 19319: 2013)
−分析領域を知るために−
齋藤 健(サーモフィッシャーサイエンティフィック(株) モレキュラー第二営業部)

6.AES & XPS−均質物質定量分析のための実験的に求められた相対感度係数の使用指針(JIS K 0167: 2011, ISO 18118: 2004)
−均質物質の正しい定量分析−
永富 隆清(旭化成(株) 基盤技術研究所 技術グループ)



<12月12日(金)>
7.各手法共通−分析試料の前処理と取り付けに関するガイドライン(ISO 18116: 2005)
−正しい結果を得るための試料前処理と取り付け−
各手法共通−分析前の試料の取り扱い(ISO 18117: 2009)
−正しい結果を得るための各種試料の扱い方−
柳内 克昭(TDK(株) ヘッドビジネスグループ)

8.中エネルギー分解能AES−元素分析のためのエネルギー軸目盛の校正(JIS K 0165: 2011, ISO 17973: 2002)
−正しいAES分析−
高エネルギー分解能AES−元素と化学状態分析のためのエネルギー軸目盛の校正(JIS K 0166: 2011, ISO 17974: 2002)
−正しいAES分析−
XPS−エネルギー軸目盛の校正(JIS K 0145: 2002,ISO 15472: 2010)
−正しいXPS分析−
堤 建一(日本電子(株) SA事業ユニット SAアプリ部)

9.スパッタ深さ方向分析−スパッタ深さ測定法(ISO/TR 15969: 2001)
−様々なスパッタ深さ測定法−
スパッタ深さ方向分析−スパッタ速度の測定法:メッシューレプリカ法(ISO/TR 22335: 2007)
−正しいスパッタ速度の測定−
スパッタ深さ方向分析−層構造系標準物質を用いた最適化法(JIS K 0146: 2002,ISO 14606: 2000)
−高精度スパッタ深さ分析のための装置パラメータの最適化−
石津 範子(沖縄科学技術大学院大学 物理研究支援セクション)

10.XPS−帯電制御と帯電補正に用いた手法の報告方法(ISO 19318: 2004)
−絶縁物の正しいXPS 分析−
高野 みどり(パナソニック(株) オートモーティブ&インダストリアルシステムズ社 デバイス分析グループ 電子部品分析チーム)

11.AES−帯電制御と帯電補正に用いた手法の報告方法(ISO 29081: 2010)
−絶縁物の正しいAES 分析−
荒木 祥和((株)日産アーク マテリアル解析部)

12.XPS−分析のガイドライン(ISO 10810: 2010)
−正しいXPS 分析を効率よく行うために−
薗林 豊(京都大学 大学院工学研究科 材料工学専攻 教育研究支援室)

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